GEWエキシマ硬化システム7

EXCシステム

GEW エキシマランプは、多様なアプリケーションに対応した真空紫外線放射を生成し、最大2.3m幅の機械装置にシームレスに統合することができます。

EXCランプ

GEWのエキシマランプシステム(EXCランプ)は、誘電体バリア放電(DBD)ランプを使用しており、通常172 nmで準単色真空紫外線を生成します。この放射は、一般的に表面コーティングのマット化、接着力向上のための表面張力の改質、および半導体や医療産業の表面洗浄に使用されています。

GEW EXCランプは、12 cm〜230cmのサイズで製造でき、すべての必要な窒素不活性化と制御の設備など、お客様の特定アプリケーションに合わせたカスタム統合が可能です。また、ゲル化やポストキュアで必要な広範のGEW UVシステムにシームレスに統合されているため、お客様のプロセスに合わせたターンキー硬化/洗浄ソリューションを提供することができます。また、当社の経験豊富なエンジニアは、国際安全基準の厳格な遵守を保証します。

*この製品カタログは英語です。


EXCの利点

  • マット化 –
    • オン・オフ瞬間マット化
    • 無添加コーティングで耐久性の向上と工程の簡素化を実現
    • 光沢度 >2 G.U.
    • プレゲル化および最終硬化UVシステムに完全統合
  • 洗浄 –
    • 幅広い半導体基板に対応した高効率洗浄
    • 非接触
  • 表面改質 –
    • 表面エネルギーの大幅な増加
  • 感熱材料用の低温加工
  • 低エネルギー、高効率の紫外線生成(最大40%)

EXCギャラリー

エキシマシステム

EXC仕様

最大電力5W / cm
ピーク波長172nm*
焦点UV照度30mW / cm²
最大長230cm
標準断面寸法164mm (幅) x 130mm (高)
冷却窒素分子 / 空冷式
標準最高動作温度40°C (104°F)
標準最高湿度非結露
*ご要望に応じて、222nmと308nmをご用意いたします。

*この製品カタログは英語です。


営業担当者に直接お問い合わせください

国際地域:
マーカス・グリーンブルック
国際セールス・ディレクター

T: +44 (0) 7764 986 911

マーカスに直接電子メールを送信する

お近くの販売代理店を探す:

お客様の国がこのリストに記載されていない場合は、英国本社にお問い合わせください。