EXCランプ
GEWのエキシマランプシステム（EXCランプ）は、誘電体バリア放電（DBD）ランプを使用しており、通常172 nmで準単色真空紫外線を生成します。この放射は、一般的に表面コーティングのマット化、接着力向上のための表面張力の改質、および半導体や医療産業の表面洗浄に使用されています。
GEW EXCランプは、12 cm〜230cmのサイズで製造でき、すべての必要な窒素不活性化と制御の設備など、お客様の特定アプリケーションに合わせたカスタム統合が可能です。また、ゲル化やポストキュアで必要な広範のGEW UVシステムにシームレスに統合されているため、お客様のプロセスに合わせたターンキー硬化／洗浄ソリューションを提供することができます。また、当社の経験豊富なエンジニアは、国際安全基準の厳格な遵守を保証します。
*この製品カタログは英語です。
EXCの利点
- マット化 –
- オン・オフ瞬間マット化
- 無添加コーティングで耐久性の向上と工程の簡素化を実現
- 光沢度 >2 G.U.
- プレゲル化および最終硬化UVシステムに完全統合
- 洗浄 –
- 幅広い半導体基板に対応した高効率洗浄
- 非接触
- 表面改質 –
- 表面エネルギーの大幅な増加
- 感熱材料用の低温加工
- 低エネルギー、高効率の紫外線生成（最大40％）
EXC仕様
| 最大電力 | 5W / cm |
| ピーク波長 | 172nm* |
| 焦点UV照度 | 30mW / cm² |
| 最大長 | 230cm |
| 標準断面寸法 | 164mm (幅) x 130mm (高) |
| 冷却 | 窒素分子 / 空冷式 |
| 標準最高動作温度 | 40°C (104°F) |
| 標準最高湿度 | 非結露 |
*この製品カタログは英語です。
営業担当者に直接お問い合わせください
お近くの販売代理店を探す：
お客様の国がこのリストに記載されていない場合は、英国本社にお問い合わせください。