エキシマシステム

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GEW エキシマランプは、多様なアプリケーションに対応した真空紫外線放射を生成し、最大2.3m幅の機械装置にシームレスに統合することができます。

エキシマシステム

GEWのエキシマランプシステム(EXCランプ)は、誘電体バリア放電(DBD)ランプを使用しており、通常172 nmで準単色真空紫外線を生成します。この放射は、一般的に表面コーティングのマット化、接着性向上のための表面張力の改質、および半導体や医療産業の表面洗浄に使用されています。

当社最新のエキシマシステムであるEXCについての詳細は、以下をご覧ください。

GEWのエキシマランプは、多様なアプリケーションに対応した真空紫外放射を生成し、最大2.3m幅の機械にシームレスに組み込むことができます。


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